東莞鋁氧化氧化時(shí)間的選擇，取決于電解質(zhì)濃度，溫度，陽(yáng)極電流密度和所需的膜厚度。相同的條件下，當(dāng)電流密度是恒定的，膜的成長(zhǎng)速度是成比例的氧化時(shí)間。但是，當(dāng)膜生長(zhǎng)到一定的厚度，由于膜電阻增大，影響導(dǎo)電能力，并且由于溫度上升，膜的增加的溶解速率，所以膜生長(zhǎng)速率會(huì)逐漸降低，直到最后不再增加。

   當(dāng)?shù)乃M(jìn)一水合物的密度，氧化物量增加了33％，并且當(dāng)水進(jìn)入三水化合物，氧化物量增加了310％，因此，當(dāng)在熱水好的部分氧化，內(nèi)壁阻擋層和氧化膜層的多孔層是第一水合，在一段時(shí)間后，逐漸在孔的底部被水化膜，當(dāng)整個(gè)腔被關(guān)閉關(guān)閉，孔隙水停止循環(huán)時(shí)，表面的薄膜層層繼續(xù)水化，直到整個(gè)毛孔口水化膜堵塞。如果使用蒸汽，可以更有效地關(guān)閉了所有的孔，但蒸汽的方法中使用的設(shè)備和成本相對(duì)高沸點(diǎn)的水的方法，除非有特殊要求，應(yīng)該盡可能使用沸水方法。